特許
J-GLOBAL ID：200903053839863979

球状シリカ粉末の製造方法

発明者：
善場 研也

善場 研也 について

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水谷 晋

水谷 晋 について

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小林 晃

小林 晃 について


出願人/特許権者：
電気化学工業株式会社

電気化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-065066
公開番号（公開出願番号）：特開2000-264622
出願日： 1999年03月11日
公開日（公表日）： 2000年09月26日
要約：
【要約】【課題】平均粒径の大きな球状シリカ粉末をその球形度を高めて容易に製造すること。【解決手段】火炎中にシリカ粉末原料を噴射して球状シリカ粉末を製造する方法において、上記シリカ粉末原料が、平均粒径d50=20〜80μm、累積10%粒子径d10=10μm以上、d90/d10≦5(但し、d90は累積90%粒子径である。)の粒度分布を有し、それをキャリアガスに混入させ、そのガス流速を15〜40m/sにして噴射することを特徴とする球状シリカ粉末の製造方法であり、特に、内炎と外炎との間にシリカ粉末原料を噴射することを特徴とするものである。
請求項（抜粋）：
火炎中にシリカ粉末原料を噴射して球状シリカ粉末を製造する方法において、上記シリカ粉末原料が、平均粒径d50=20〜80μm、累積10%粒子径d10=10μm以上、d90/d10≦5(但し、d90は累積90%粒子径である。)の粒度分布を有し、それをキャリアガスに混入させ、そのガス流速を15〜40m/sにして噴射することを特徴とする球状シリカ粉末の製造方法。
IPC (3件)：
C01B 33/18 ,  H01L 23/29 ,  H01L 23/31
FI (2件)：
C01B 33/18 Z ,  H01L 23/30 R
Fターム (14件)：
4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072DD03 ,  4G072GG03 ,  4G072LL05 ,  4G072MM38 ,  4G072MM40 ,  4G072TT01 ,  4G072TT02 ,  4G072UU01 ,  4G072UU09 ,  4M109AA01 ,  4M109EB13 ,  4M109EB16
引用特許：
審査官引用 (5件)
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