研磨布

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-141112
公開番号（公開出願番号）：特開2007-308843
出願日： 2006年05月22日
公開日（公表日）： 2007年11月29日
要約：

【課題】凹凸の鋭角性に優れるテクスチャー痕を形成することができるとともに、スクラッチ欠点、リッジ欠点が少なく歩留まりが良く、更に基板表面上に表面粗さ0.3nm以下という高精度なハードディスクのテクスチャー加工を施すことができる研磨布を提供する。【解決手段】本発明の研磨布は、平均繊度が0.0001〜0.01dtexのポリエステル極細繊維および/または該ポリエステル極細繊維からなる極細繊維束が絡合してなる不織布と、ポリウレタンを主成分とした高分子弾性体とで構成され、少なくとも片面が該極細繊維からなる立毛面を有するシート状物からなる研磨布であって、該ポリエステル極細繊維が、環状アセタール骨格を有するジオールを5モル%以上40モル%以下含むジオール成分と、テレフタル酸及び/またはナフタレンジカルボン酸を主たる構成成分とする芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸成分とで構成されるポリエステル樹脂からなる繊維であることを特徴とする研磨布である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

平均繊度が0.0001〜0.01dtexのポリエステル極細繊維および/または該ポリエステル極細繊維からなる極細繊維束が絡合してなる不織布と、ポリウレタンを主成分とした高分子弾性体とで構成され、少なくとも片面が該極細繊維からなる立毛面を有するシート状物からなる研磨布であって、該ポリエステル極細繊維が、環状アセタール骨格を有するジオールを5モル%以上40モル%以下含むジオール成分と、テレフタル酸及び/またはナフタレンジカルボン酸を主たる構成成分とする芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸成分とで構成されるポリエステル樹脂からなる繊維であることを特徴とする研磨布。

IPC (6件)：

D04H 1/42 , B24B 37/00 , C08G 63/66 , D06M 11/38 , D06M 11/00 , G11B 5/84

FI (6件)：

D04H1/42 X , B24B37/00 C , C08G63/66 , D06M11/38 , D06M11/00 111 , G11B5/84 A

Fターム (29件)：

3C058AA07 , 3C058AA09 , 3C058CA01 , 3C058CB02 , 4J029AA03 , 4J029AD01 , 4J029AE02 , 4J029BA03 , 4J029BF30 , 4J029CB06A , 4J029CC06A , 4L031AA18 , 4L031AB34 , 4L031BA11 , 4L031CA01 , 4L031CA10 , 4L031DA00 , 4L047AA21 , 4L047AB02 , 4L047BA03 , 4L047CB10 , 4L047CC14 , 4L047CC16 , 5D112AA02 , 5D112AA24 , 5D112BA03 , 5D112BA06 , 5D112BA09 , 5D112GA13

引用特許：

出願人引用 (8件)

研磨シート
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-023149 出願人：日本バイリーン株式会社
精密機器製造用研磨シート
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-118396 出願人：日本バイリーン株式会社
テクスチャー加工用研磨シート及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-081932 出願人：株式会社クラレ

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