特許
J-GLOBAL ID：200903053976745991
反射防止膜及びその製造方法、並びに反射防止膜作製用スタンパ及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伴 俊光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-273561
公開番号（公開出願番号）：特開2007-086283
出願日： 2005年09月21日
公開日（公表日）： 2007年04月05日
要約：
【課題】陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として、高分子フィルム面により最適な反射防止構造を効率的に形成可能な反射防止膜の製造方法及びその方法により形成された反射防止膜、並びに、その反射防止膜を形成可能なスタンパ及びその製造方法を提供する。【解決手段】陽極酸化と孔径拡大化処理を組み合わせ、それぞれの処理条件を調節することにより、細孔の縦断面形状にて細孔の孔径が細孔深さ方向に曲線的に減少した形状の細孔をもつ陽極酸化ポーラスアルミナを作製し、該陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として用いることにより、あるいは該陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として作製したスタンパを用いることにより、高分子材料の表面に前記細孔の形状に対応した形状の突起または窪みの配列を形成することを特徴とする反射防止膜の製造方法、その方法により形成された反射防止膜、反射防止膜形成のためのスタンパ及びその製造方法。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
陽極酸化と孔径拡大化処理を組み合わせ、それぞれの処理条件を調節することにより、細孔の縦断面形状にて細孔の孔径が細孔深さ方向に曲線的に減少した形状の細孔をもつ陽極酸化ポーラスアルミナを作製し、該陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として用いることにより、あるいは該陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として作製したスタンパを用いることにより、高分子材料の表面に前記細孔の形状に対応した形状の突起または窪みの配列を形成することを特徴とする反射防止膜の製造方法。
IPC (3件)：
G02B 1/11
, B29C 33/38
, B29C 33/42
G02B1/10 A
, B29C33/38
, B29C33/42
2K009AA01
, 2K009AA12
, 2K009CC21
, 2K009DD15
, 4F202AF01
, 4F202AG05
, 4F202AH78
, 4F202AJ02
, 4F202AJ10
, 4F202AR12
, 4F202CA30
, 4F202CB01
, 4F202CD03
, 4F202CD24
, 4F202CD30
, 4F202CK43
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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