特許
J-GLOBAL ID：200903053977911828
塩化銅エッチング液の再生方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊藤 武久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-220113
公開番号（公開出願番号）：特開平7-070784
出願日： 1993年09月03日
公開日（公表日）： 1995年03月14日
要約：
【要約】【目的】 簡単な操作で、しかも低い運転コストでエッチング液を再生処理するとともに発生する塩素ガスを系外に放出することなく、安全に有効利用する。【構成】 塩化第一銅を含有する塩化銅エッチング液の一部を隔膜電解槽の陰極側へ導く工程と、当該陰極側で1価と2価の銅イオンの合計濃度を10〜25g/リットルに調整するとともに陰極及び陽極の電流密度を5〜25A/dm2に維持しながら金属銅を回収する工程と、隔膜電解槽の陽極側で発生する塩素ガスを、塩化第一銅を含有する塩化銅エッチング液の別の一部に導入する工程と、を有し、塩素ガス導入を受けるエッチング液中の1価の銅が全て2価の銅に酸化されるように、隔膜電解槽へのエッチング液供給量と塩素ガス導入を受けるエッチング液量の比率を調整する。
請求項（抜粋）：
塩化第一銅を含有する塩化銅エッチング液の一部を隔膜電解槽の陰極側へ導く工程と、当該陰極側で1価と2価の銅イオンの合計濃度を10〜25g/リットルに調整するとともに陰極及び陽極の電流密度を5〜25A/dm2に維持しながら金属銅を回収する工程と、隔膜電解槽の陽極側で発生する塩素ガスを、塩化第一銅を含有する塩化銅エッチング液の別の一部に導入する工程とを有し、当該別のエッチング液中の1価の銅により導入される塩素ガスが全て当該液に吸収されるように、隔膜電解槽へのエッチング液供給量と塩素ガス導入を受けるエッチング液量の比率を調整することを特徴とするエッチング液の再生方法。
IPC (5件)：
C25C 7/06 301
, C23F 1/18
, C23F 1/46
, C25C 1/12
, H05K 3/06
