特許
J-GLOBAL ID：200903054029530376
無水イサト酸類の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-346129
公開番号（公開出願番号）：特開平9-235277
出願日： 1996年12月25日
公開日（公表日）： 1997年09月09日
要約：
【要約】【課題】 設備生産性及び収率を向上しめた無水イサト酸類の製造方法を提供する。【解決手段】 ホスゲンとアントラニル酸類(I)又はその塩を用いて無水イサト酸類(II)を製造するにあたり、溶媒として、水と水に混和し且つ反応に不活性である有機溶媒との混合溶媒を用いることを特徴とする無水イサト酸類(II)の製造方法。
請求項（抜粋）：
ホスゲンと式(I)(式中、R1,R2 は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ハロゲン原子が置換していることもある低級アルキル基、ハロゲン原子が置換していることもあるアラルキル基、ハロゲン原子が置換していることもあるアルコキシ基、ハロゲン原子が置換していることもあるアルコキシカルボニル基、アシロキシ基又はXNR4R5(Xは単なる結合、低級アルキレン基又はカルボニル基を表す。Xが単なる結合又は低級アルキレン基である場合は、R4,R5 はそれぞれ独立に低級アルキル基又はN,R4,R5 が一緒になって他のヘテロ原子を含んでいることもある5員複素環若しくは6員複素環を表す。Xがカルボニル基である場合はR4,R5 はそれぞれ独立に水素原子、低級アルキル基又はN,R4,R5 が一緒になって他のヘテロ原子を含んでいることもある5員複素環若しくは6員複素環を表す。他のヘテロ原子を含む場合は、該ヘテロ原子は置換基を有することもできる。)を表す。R3 は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ハロゲン原子が置換していることもある低級アルキル基、ハロゲン原子が置換していることもあるアラルキル基、ハロゲン原子が置換していることもあるアルコキシ基又はハロゲン原子が置換していることもあるアルコキシカルボニル基を表す。)で示されるアントラニル酸類又はその塩を用いて、式(II)(式中、R1,R2,R3 はそれぞれ前記と同じ意味を表す。)で示される無水イサト酸類を製造するにあたり、溶媒として、水と水に混和し且つ反応に不活性である有機溶媒との混合溶媒を用いることを特徴とする無水イサト酸類の製造方法。
IPC (3件)：
C07D265/26
, A61K 31/42 ABE
, A61K 31/42 ADP
C07D265/26
, A61K 31/42 ABE
, A61K 31/42 ADP
