特許
J-GLOBAL ID：200903054033602632

薄膜パタ-ンの製造方法および微細構造体

発明者：
関 俊一

関 俊一 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 稲葉 良幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-099930
公開番号（公開出願番号）：特開2001-284798
出願日： 2000年03月31日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
要約：
【要約】【目的】 薄膜のパターンが基板上に高い密着性を持って形成し得るパターニング方法を提供する。【解決手段】 基板11にフルオロ基を有する有機分子膜パターンを形成する工程と、フルオロ基を有する有機分子膜パターンのフルオロ基を有する膜が無い部分に、チオール系カップリング剤からなる有機分子膜を選択的に形成する工程と、フルオロ基を有する有機分子膜及びチオール系カップリング剤からなる有機分子膜から構成されるパターン12上に金属薄膜を形成するための材料を含む溶液を供給し、チオール基を有する有機分子膜上に、金属薄膜13を選択的に形成する工程を具備する。
請求項（抜粋）：
基板に有機分子膜からなるパターンを形成し、該有機分子膜パターン上に薄膜を形成するための溶液を供給し、該有機分子膜パターン上に前記薄膜を選択的に形成することを特徴とする薄膜パターンの製造方法。
IPC (5件)：
H05K 3/38 ,  B05D 5/12 ,  B05D 7/24 302 ,  B41J 2/01 ,  H01B 13/00 503
FI (5件)：
H05K 3/38 B ,  B05D 5/12 B ,  B05D 7/24 302 Z ,  H01B 13/00 503 D ,  B41J 3/04 101 Z
Fターム (31件)：
2C056FB05 ,  2C056FC01 ,  2C056HA46 ,  4D075AB01 ,  4D075AE02 ,  4D075CA13 ,  4D075CA22 ,  4D075DA06 ,  4D075DB11 ,  4D075DB13 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4D075EC08 ,  4D075EC10 ,  4D075EC45 ,  5E343AA01 ,  5E343AA11 ,  5E343AA22 ,  5E343AA38 ,  5E343BB15 ,  5E343BB60 ,  5E343CC21 ,  5E343CC56 ,  5E343CC61 ,  5E343DD12 ,  5E343EE08 ,  5E343ER12 ,  5E343ER18 ,  5E343GG01 ,  5G323CA05
引用特許：
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM