磁気ディスク基板の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤孝夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-348540
公開番号（公開出願番号）：特開平11-167714
出願日： 1997年12月03日
公開日（公表日）： 1999年06月22日
要約：

【要約】【課題】コンピュータ等の記憶装置用アルミニウム製の磁気ディスク基板は高密度記録を実現するべくヘッドと媒体の間隔を狭める必要があり、それにともなうヘッドクラッシュの防止のため、磁気ディスク基板は平滑で欠陥ができるだけ少ないことが求められている。具体的にはRa≦5Å、Rmax≦80Å、深さ50Å以上のスクラッチがなく、深さ50Å以深のピットもないという研磨品質が要望されている。【解決手段】本発明は、アルミ磁気ディスク基板の製造工程におけるNi-Pめっき処理後の研磨工程において、Ra=15Å以下、Rmax=200Å以下、好ましくはRa=10Å以下、Rmax=100Å以下まで加工した後、0.01%以上の過酸化水素を含有しかつ粒径0.5μm以下のシリカ粒子を含有したコロイド状研磨剤を用いて研磨することを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

アルミ磁気ディスク基板の製造工程におけるNi-Pめっき処理後の研磨工程において、Ra=15Å以下、Rmax=200Å以下まで加工した後、0.01%以上の過酸化水素を含有しかつ粒径0.5μm以下のシリカ粒子を含有したコロイド状研磨剤を用いて研磨することを特徴とする磁気ディスク基板の製造方法。

IPC (3件)：

G11B 5/84 , B24B 1/00 , B24B 37/00

FI (3件)：

G11B 5/84 A , B24B 1/00 D , B24B 37/00 H

引用特許：

審査官引用 (14件)

超研摩方法およびそのためのスラリ
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-324753 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
研磨材及び研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-343621 出願人：三井金属鉱業株式会社
特開昭55-125976

全件表示

前のページに戻る