特許

J-GLOBAL ID：200903054160317548

ポジ型感光性樹脂組成物及び半導体装置

発明者： 真壁 裕明 ,  番場 敏夫 ,  平野 孝
出願人/特許権者： 住友ベークライト株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-319226
公開番号（公開出願番号）：特開2004-151605
出願日： 2002年11月01日
公開日（公表日）： 2004年05月27日
要約：

【課題】高感度かつ高解像度であり、現像後の未露光部の膜減り量が少ないポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】一般式(1)で示されるポリアミド樹脂(A)、光により酸を発生する化合物(B)、特定のフェノール化合物の水酸基を、酸の存在下で分解する酸不安定基で保護された化合物(C)及び溶剤(D)を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。【化1】

請求項（抜粋）：

一般式(1)で示されるポリアミド樹脂(A)、光により酸を発生する化合物(B)、一般式(2)で示されるフェノール化合物の水酸基を、酸の存在下で分解する酸不安定基で保護された化合物(C)及び溶剤(D)を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F7/039 ,  C08G69/26 ,  G03F7/037 ,  H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 ,  C08G69/26 ,  G03F7/037 ,  H01L21/30 502R

Fターム (46件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB23 ,  2H025CB26 ,  2H025CB32 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025FA01 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  4J001DA01 ,  4J001DB02 ,  4J001DC10 ,  4J001DC14 ,  4J001DC22 ,  4J001DC24 ,  4J001EB25 ,  4J001EB35 ,  4J001EB56 ,  4J001EB57 ,  4J001EB58 ,  4J001EB59 ,  4J001EB60 ,  4J001EC23 ,  4J001EC27 ,  4J001EC38 ,  4J001EC44 ,  4J001EC56 ,  4J001EC67 ,  4J001EC68 ,  4J001EC69 ,  4J001EC70 ,  4J001EE27C ,  4J001FA01 ,  4J001FB03 ,  4J001FC03 ,  4J001FC06 ,  4J001JA07

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-148562   出願人：日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社
• ポジ型感光性樹脂組成物及び半導体装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-039597   出願人：住友ベークライト株式会社