特許

J-GLOBAL ID：200903054211597613

極値紫外線リソグラフィー(EUVL)の多層構造

発明者： バービー,トロイ ダブリュー,ジュニア ,  バジト,ササ
出願人/特許権者： ザ・リージェンツ・オブ・ジ・ユニバーシティ・オブ・カリフォルニア
代理人 (3件)： 伊東 忠彦 ,  大貫 進介 ,  伊東 忠重
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-586358
公開番号（公開出願番号）：特表2004-532413
出願日： 2002年04月23日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：

軟X線及び極値紫外線領域で使用される、Mo/Si(モリブデン/シリコン)多層フィルムの反射率及び熱安定性は、MoとSiの交互の層間における炭化ホウ素(例えば、B4C)の薄い層の沈着によって増強される。これは、軟X線及び極値光紫外線における反射性コーティング、マスクにおける多層、他の波長におけるコーティング及び純粋なMo/Si多層よりも熱的に安定なマスクにおける多層において有用である。

請求項（抜粋）：

吸収層とスペーサー層の交互の層と、及び 前記吸収層の各々と前記スペーサー層の各々との間に位置する界面層とを有し、 前記界面層は、前記吸収層と前記スペーサー層との間の界面反応を制御する物質を含むことを特徴とする、極値紫外線リソグラフィーの多層構造。

IPC (3件)：

G21K1/06 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

FI (5件)：

G21K1/06 B ,  G21K1/06 C ,  G21K1/06 D ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 531E

Fターム (2件)：

5F046GA03 ,  5F046GB01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 多層膜X線反射鏡
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-033249   出願人：日本電信電話株式会社
• 特開平2-242201
  
• 極端紫外光学素子用のキャッピング層
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-195020   出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ