特許
J-GLOBAL ID：200903054281620078

外観検査方法及びその装置

発明者：
渋谷 久恵

渋谷 久恵 について

, 
前田 俊二

前田 俊二 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-174958
公開番号（公開出願番号）：特開2008-004863
出願日： 2006年06月26日
公開日（公表日）： 2008年01月10日
要約：
【課題】外観検査において、全体の欠陥捕捉率を高く維持しながら虚報を抑制することにより実質感度を向上する技術を提供することにある。【解決手段】外観検査において、予備検査を行って、欠陥候補の検出と同時に少なくとも1ダイ分の画像情報(背景情報)を取得し、該取得した画像情報と検出された欠陥候補のダイ内座標位置情報を重ねて表示し、それらの情報(背景の類似と欠陥候補の密集状態)を基に虚報のグループを推定して非検査領域あるいは感度低下領域を設定することを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被検査基板上に光または電子線を照射する照射光学系と、該照射された前記被検査基板から得られる光または電子を検出して画像信号を取得する検出光学系と、該取得される画像信号に対して所定の判定しきい値で判定して欠陥候補を検出する欠陥検出部とを備えた外観検査装置を用いて被検査基板上の欠陥を検査する外観検査方法であって、 前記外観検査装置を用いた予備検査において前記欠陥検出部から検出される欠陥候補の被検査基板上の位置情報及び背景情報を取得する予備検査過程と、 該予備検査過程で取得される欠陥候補の被検査基板上の位置情報及び背景情報に基づいて前記被検査基板上に領域を設定し、該設定された領域別に感度パラメータを設定する領域別感度設定過程と、 前記欠陥検出部で検出された欠陥候補の検出信号に対して前記領域別感度設定過程で設定した領域別感度パラメータに基づいて欠陥判定する領域別欠陥判定過程とを有することを特徴とする外観検査方法。
IPC (4件)：
H01L 21/66 ,  G01N 21/956 ,  G01B 15/04 ,  G01B 11/24
FI (4件)：
H01L21/66 J ,  G01N21/956 A ,  G01B15/04 K ,  G01B11/24 K
Fターム (71件)：
2F065AA49 ,  2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065CC19 ,  2F065DD04 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065HH05 ,  2F065HH12 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL09 ,  2F065LL10 ,  2F065LL12 ,  2F065LL21 ,  2F065LL24 ,  2F065LL25 ,  2F065LL31 ,  2F065MM03 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ31 ,  2F065RR06 ,  2F065SS13 ,  2F065UU05 ,  2F067AA03 ,  2F067AA13 ,  2F067AA45 ,  2F067BB04 ,  2F067CC17 ,  2F067EE10 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067NN03 ,  2F067PP12 ,  2F067RR12 ,  2F067RR24 ,  2F067RR35 ,  2F067RR38 ,  2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051BA10 ,  2G051BB03 ,  2G051BB07 ,  2G051CB01 ,  2G051CC07 ,  2G051DA07 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  2G051EB09 ,  2G051EC02 ,  2G051EC03 ,  2G051FA01 ,  4M106AA01 ,  4M106AA02 ,  4M106AA09 ,  4M106BA02 ,  4M106BA04 ,  4M106CA38 ,  4M106DB07 ,  4M106DB20 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ19
引用特許：
出願人引用 (3件)

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