特許
J-GLOBAL ID：200903054511378336
静電マイクロアクチュエータの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-183753
公開番号（公開出願番号）：特開2001-009798
出願日： 1999年06月29日
公開日（公表日）： 2001年01月16日
要約：
【要約】【課題】 垂直方向への大きな駆動が可能であるとともに、駆動力の発生点が駆動中において変化することのない、新たな静電マイクロアクチュエータを製造する方法を提供する。【解決手段】 基板1と、基板電極絶縁層2と、基板電極3と、駆動電極絶縁層5と、過冷却液体域を有する非晶質材料からなる平面電極11とがこの順に積層されてなるアセンブリを設置治具12に上下逆向きに設置する。そして、平面電極11を前記非晶質材料の過冷却液体域に加熱することにより軟化させ、平面電極11自身の自重によって下方に向かって変形させる。これによって、螺旋状の駆動電極14を得、静電マイクロアクチュエータを完成させる。
請求項（抜粋）：
過冷却液体域を有する非晶質材料からなる薄膜を所定の基板上に形成する工程と、前記薄膜をエッチングすることにより渦巻状の平面電極を形成する工程と、前記平面電極を前記非晶質材料の過冷却液体域まで加熱し、前記平面電極を立体的に変形させて螺旋状の駆動電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする、静電マイクロアクチュエータの製造方法。
IPC (3件)：
B81C 1/00
, B66F 1/00
, B81B 3/00
B81C 1/00
, B66F 1/00
, B81B 3/00
