電子線描画方法及び電子線描画装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：平木祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-235297
公開番号（公開出願番号）：特開平10-079339
出願日： 1996年09月05日
公開日（公表日）： 1998年03月24日
要約：

【要約】【課題】下層露光装置、特に光縮小露光装置の静的歪み及び動的歪みの変化に対応した、高スループットな電子線描画方法を提供する。【解決手段】チップ内に形成されている少なくとも2個のマークを所定数のチップについて各々検出(S30)し、検出されたマークの位置と該マークの設計位置とからウェハ面内における各チップの形状歪とウェハ座標との関係を統計処理により求める(S31,32,33)。その後、求めたチップの形状歪とウェハ座標との関係を用いて各チップに描画すべきパターンを補正しながら(S34,35)、全てのチップにパターンを描画する(S36,37)。

請求項（抜粋）：

ウェハ上に電子線を走査し、ウェハ上に設定された複数のチップに対して所望のパターンを描画する電子線描画方法において、前記チップ内に形成されている少なくとも2個のマークを所定数のチップについて各々検出し、検出されたマークの位置と該マークの設計位置とからウェハ面内における各チップの形状歪とウェハ座標との関係を統計処理により求めるステップと、前記ステップで求められた前記チップの形状歪とウェハ座標との関係を用いて前記各チップに描画すべきパターンを補正しながら全てのチップにパターンを描画するステップとを含むことを特徴とする電子線描画方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 9/00 , H01J 37/305

FI (3件)：

H01L 21/30 541 K , G03F 9/00 H , H01J 37/305 A

引用特許：

出願人引用 (3件)

位置合わせ方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-230834 出願人：株式会社東芝
特開平1-191416
電子線露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-089357 出願人：日本電気株式会社

審査官引用 (3件)

位置合わせ方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-230834 出願人：株式会社東芝
特開平1-191416
電子線露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-089357 出願人：日本電気株式会社

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