特許

J-GLOBAL ID：200903054630671629

電子材料用洗浄水

発明者： 森田 博志 ,  水庭 哲夫 ,  井田 純一
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-355180
公開番号（公開出願番号）：特開平11-186207
出願日： 1997年12月24日
公開日（公表日）： 1999年07月09日
要約：

【要約】【課題】薬剤を用いることなく電子材料用洗浄水のpHを調整して洗浄効果を高めるとともに、ユースポイントで使用されなかった余剰の電子材料用洗浄水を超純水の原水として利用するとき、余剰の洗浄水の脱イオンが不要で、回収、再利用の容易な電子材料用洗浄水を提供する。【解決手段】酸化剤又は還元剤と炭酸とを含有することを特徴とする電子材料用洗浄水。

請求項（抜粋）：

酸化剤又は還元剤と炭酸とを含有することを特徴とする電子材料用洗浄水。

IPC (5件)：

H01L 21/304 647 ,  B08B 3/08 ,  C11D 7/02 ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/10

FI (5件)：

H01L 21/304 647 ,  B08B 3/08 Z ,  C11D 7/02 ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/10

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ウエット処理方法および処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-184892   出願人：大見忠弘
• ウエット処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-056110   出願人：日本電気株式会社
• 特開平3-296490
  
• 電子部品部材類の洗浄方法及び洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-303626   出願人：オルガノ株式会社, 株式会社フロンテック