特許
J-GLOBAL ID:200903054764792740

空気抜きシステムを有するフォトレジスト供給システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉田 茂明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-009220
公開番号(公開出願番号):特開平8-250412
出願日: 1996年01月23日
公開日(公表日): 1996年09月27日
要約:
【要約】【課題】 フォトレジスト供給システムにおいて残留するレジストによって引き起こされる汚濁の可能性を防止または低下させる。【解決手段】 真空発生器Vのベンチュリ管の下流側にある流出口に空気の流れを制御する排気バルブAV1が取り付けられるとともに、その排気バルブAV1の下流側に第2真空発生器V′が取り付けられる。この排気バルブAV1を介して空気を吸引し、第2真空発生器V′のベンチュリ管を通過する空気の流れを形成することによって真空ライン上に真空が発生する。この真空は排気バルブAV1から下流方向へ向かって負圧が発生する。このため、真空チャンバ内に空気が入り込み、万一バルブAV1が詰まった場合でも、レジストと空気の逆流が防止される。
請求項(抜粋):
レジスト供給源からレジストを受け取り、前記レジストを供給するためのトラップタンクと、前記トラップタンクに関連して設けられ、前記トラップタンク内の過剰な気体を検知し、それに対して信号を発生させるセンサーと、真空ラインを介して前記トラップタンクに接続されており、前記センサー信号に応じて前記真空ラインに真空を発生させ、前記レジスト供給源からレジストを吸引することによって前記トラップタンクおよび前記真空ラインにレジストを充填することで、前記トラップタンクから過剰気体を取り除く真空発生器と、を備えるフォトレジスト供給システムにおいて、前記真空発生器が、通過する空気の流れに対応し、前記真空ライン上に真空を発生させるために配置されたベンチュリ管と、前記ベンチュリ管の下流側にある流出口に接続され、前記空気の流れを制御する排気バルブと、前記排気バルブの下流側に設けられ、前記排気バルブを介して空気を吸引することで、前記ベンチュリ管を通過する前記空気の流れを形成することによって前記真空ライン上に前記真空を発生させるための第2真空発生器とを備えることを特徴とする空気抜きシステムを有するフォトレジスト供給システム。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  F04F 5/20 ,  G03F 7/16
FI (3件):
H01L 21/30 564 Z ,  F04F 5/20 A ,  G03F 7/16
引用特許:
出願人引用 (6件)
  • 特開平4-197434
  • 特開平4-070838
  • 特開平2-094517
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