特許

J-GLOBAL ID：200903054772016407

導電性コーティング膜の形成方法

発明者： 小山 俊隆
出願人/特許権者： 日本ペイント株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-375941
公開番号（公開出願番号）：特開2004-207558
出願日： 2002年12月26日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：

【課題】インクジェット方式により金属コロイド溶液を塗布した後、加熱や光などの特別な処理を施すことなく、導電性コーティング膜を形成する方法を提供する。【解決方法】金属コロイド溶液をインクジェット方式により基材に塗布して、導電性コーティング膜を得る方法において、上記塗布が行われる基材表面にインクジェットインク用受容層が形成されており、塗布後の乾燥が100°C以下で行われることを特徴とする導電性コーティング膜の形成方法。

請求項（抜粋）：

金属コロイド溶液をインクジェット方式により基材に塗布して、導電性コーティング膜を得る方法において、 前記塗布が行われる基材表面にインクジェットインク用受容層が形成されており、塗布後の乾燥が100°C以下で行われることを特徴とする導電性コーティング膜の形成方法。

IPC (2件)：

H05K3/10 ,  B41J2/01

FI (2件)：

H05K3/10 D ,  B41J3/04 101Z

Fターム (12件)：

2C056FB05 ,  2C056FD10 ,  5E343AA02 ,  5E343BB25 ,  5E343BB72 ,  5E343BB75 ,  5E343CC22 ,  5E343CC52 ,  5E343DD12 ,  5E343EE39 ,  5E343FF05 ,  5E343GG11

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 導電膜パターンの形成方法および電気光学装置、電子機器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-197801   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 透光性導電膜の製造方法及び透光性導電膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-121907   出願人：住友大阪セメント株式会社