特許
J-GLOBAL ID：200903054881767781

基板ハンドラ

発明者：
ハーネス ヤコブス

ハーネス ヤコブス について

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ベルナルデュス アントニウス ヨハネス ルッティクフイス

ベルナルデュス アントニウス ヨハネス ルッティクフイス について

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ハルメン クラース ファン デル ショート

ハルメン クラース ファン デル ショート について

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ペトルス マシューズ ヘンリクス フォシュテルス

ペトルス マシューズ ヘンリクス フォシュテルス について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (1件)： 森下 賢樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-146010
公開番号（公開出願番号）：特開2009-231846
出願日： 2009年06月19日
公開日（公表日）： 2009年10月08日
要約：
【課題】より効率的に機能することができる基板ハンドラを提供する。【解決手段】露光前に基板8を基板テーブル6上にロードし、露光後に基板8を基板テーブル6からアンロードするように適合されており、複数の独立した基板8,8を同時に搬送するように適合された少なくとも1つの支持面又はプラットフォーム14、16を含む、基板8をリソグラフィ装置の基板テーブル6に対して動かす基板ハンドラ12を有する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
ベース・プレートによって支持された、基板を支持する基板テーブルと、 前記基板の標的部分にパターンを与えるパターニング・システムと、 基板を前記基板テーブルに対して動かす基板ハンドラであって、実質的に前記ベース・プレートの上に配置される基板ハンドラとを有するリソグラフィ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/677
FI (3件)：
H01L21/30 514D ,  G03F7/20 501 ,  H01L21/68 A
Fターム (17件)：
2H097DB03 ,  2H097DB07 ,  2H097DB11 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA13 ,  5F031GA02 ,  5F031GA43 ,  5F031GA53 ,  5F031LA02 ,  5F031MA27 ,  5F046BA03 ,  5F046CD01 ,  5F046CD04 ,  5F046CD06
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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