特許
J-GLOBAL ID：200903054895257670

プラズマアークトーチのための改善したインサート構造を持った電極

発明者：
ジッペング ルー

ジッペング ルー について

, 
リチャード ダブリュー.クーチ

リチャード ダブリュー.クーチ について


出願人/特許権者：
ハイパーサーム インコーポレイテッド

ハイパーサーム インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-561801
公開番号（公開出願番号）：特表2002-521798
出願日： 1999年07月02日
公開日（公表日）： 2002年07月16日
要約：
【要約】プラズマアークトーチへの使用のための電極は、特に高電流の処理に対する、電極の耐用期間を改善するために設計されたインサートを持つ。電極は高い熱伝導率の材質から形成される、細長い電極本体から成り、その電極の底部の端に配置された穴を持つ。穴は円筒形であってもよいし、環状であってもよい。インサートは高い熱電子放射率の材質から成り、いくつかの実施例においては、その穴に高い熱伝導率の材質が配置される。インサートは環状であってもよいし、円筒形であってもよい。
請求項（抜粋）：
プラズマアークトーチのための電極であって: 高い熱伝導率の材質から形成され、その底部の端に配置された穴を持った細長い電極本体;及び、 前記穴に配置された、ハフニウムまたはジルコニウムから成る高い熱電子放射率の材質から構成される環状のインサート、から成る電極。
IPC (2件)：
H05H 1/34 ,  B23K 10/00 504
FI (2件)：
H05H 1/34 ,  B23K 10/00 504
Fターム (3件)：
4E001LE06 ,  4E001LH09 ,  4E001ME04
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (27件)
  • プラズマアークトーチのための電極
    公報種別：公表公報   出願番号：特願平8-506512   出願人：ハイパーサームインコーポレイテッド
  • プラズマ生成用ホローカソード
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-342450   出願人：日本真空技術株式会社
  • プラズマアーク加工用電極
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-208304   出願人：日鐵溶接工業株式会社
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