特許
J-GLOBAL ID：200903054933227594
移植可能な調整自在流体流量制御弁
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 稔 (外9名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-531929
公開番号（公開出願番号）：特表2001-509049
出願日： 1997年01月24日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
要約：
【要約】皮下移植可能で経皮的に調整可能な流体流量制御装置(20)は、入口から出口まで流体の流れを制御するための磁気的に調整可能な弁を包含する。この弁は、流体通路が貫通しているハウジング(36)と、弁座(92)に係合して流体通路を閉じる弁要素(94)と、入口、出口間の流体圧力差が選択的な弁開放圧力を超えるまで、弁要素(94)を弁座(92)に向かって片寄せ、通路を閉じた状態に保つばね(96)とを包含する。固定二重同心踏み面アレイ(102)およびその上に位置するロータ組立体(100)が設けてあり、ばねによって弁要素に付与された片寄せ量を調節できるようにしてある。ロータ組立体(100)は、外部の経皮的に適用された磁場に応答して回転するようになっている。一実施例において、ロータ組立体は、踏み面アレイ(102)に対するいくつかの可能性のある回転位置のうちの1つに錠止され、その回転が阻止され得る。
請求項（抜粋）：
皮下に移植可能で経皮的に調整可能な流体流量制御装置であって、 制御装置のための入口と、 入口から隔たった、制御装置のための出口と、 入口から出口まで流体の流れを制御する弁装置と を包含し、この弁装置が、 弁座を形成する周面を有する貫通した流体通路を包含する弁ハウジングと 、 弁座に隣接した弁要素と、 入口、出口間の流体圧力差が選定した弁開放圧力を超えるまで弁要素を弁座に 対して片寄せ、流体通路を閉じた状態に保つ手段と、 この片寄せ手段によって弁要素に付与される片寄せ力を調節する手段であり、 固定二重同心踏み面アレイと、片寄せ手段を支える第1表面および二重同心踏 み面アレイで支えられる第2表面を有する上に位置したロータ組立体とを包含 し、ロータ組立体が経皮適用の磁場に応答して回転可能であり、ロータ組立体 のこの回転で、踏み面アレイ上の第2表面の選択した着座を許し、踏み面アレ イに関してロータ組立体を上下動させ得るようにした調節手段と を包含することを特徴とする流体流量制御装置。
引用特許：
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