特許
J-GLOBAL ID：200903054939979318
離散パターン生成方法、プログラム、記録媒体および離散パターン生成システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
間山 進也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-131902
公開番号（公開出願番号）：特開2007-306576
出願日： 2007年05月17日
公開日（公表日）： 2007年11月22日
要約：
【課題】 充分に一様で、かつランダムな離散パターンを提供すること。【解決手段】 本発明の離散パターンは、2次元的に配置される離散したドットから形成され、前記ドットが、ロー・ディスクレパンシイ・シーケンスを使用して生成されている。本発明においては、ディスクレパンシイの2乗であるDが、所定の条件を満たす場合に好ましい一様な離散パターンを提供することができる。また、本発明は、充填率に関連してドットを自動的に生成または削除することにより、充填率が急激に変化する場合においても良好な離散パターンを提供することを可能とする。また、本発明の離散パターンには、良好な青色ノイズ特性を与えることができ、濃淡画像の良好なディザリング・パターンを与える。【選択図】 図54
請求項（抜粋）：
コンピュータ・システムを使用して2次元的に配置される離散したドットから形成される離散パターンであって、光線を、光線の散乱、光線の透過、または光の吸収により受動的に制御し、導光板、散乱板、ディザリング・パターン、リソグラフィー用フォトマスクパターンとされる離散パターンを生成するための方法であって、該方法は、
所定の区画を与えるステップと、
前記所定の区画に配置するドットの数を決定するステップと、
前記ドットの位置座標を、横Lx、縦Lyの矩形型の区画に含まれる前記ドットが、4000以下の場合に、下記式(1)
IPC (3件)：
H04N 1/405
, G02B 5/02
, G02F 1/133
H04N1/40 B
, G02B5/02 C
, G02F1/13357
2H042BA03
, 2H042BA13
, 2H042BA15
, 2H042BA20
, 2H091FA14Z
, 2H091FA23Z
, 2H091FA31Z
, 2H091FA34Z
, 2H091FA42Z
, 2H091FC02
, 2H091FC13
, 2H091FC23
, 2H091LA16
, 2H091LA21
, 5C077LL03
, 5C077LL19
, 5C077NN08
, 5C077NP01
, 5C077PQ12
, 5C077PQ22
, 5C077SS02
, 5C077SS05
, 5C077SS06
, 5C077TT02
