特許

J-GLOBAL ID：200903055012509787

洗浄処理装置及び洗浄処理方法

発明者： 飽本 正巳
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-258961
公開番号（公開出願番号）：特開2002-136935
出願日： 1995年06月27日
公開日（公表日）： 2002年05月14日
要約：

【要約】【課題】 異なる種類の洗浄液を使用する場合に、次工程に異なる雰囲気が持ち込まれるのを防止し、製品歩留まりの向上を図る。【解決手段】 半導体ウエハ1を回転可能に保持するスピンチャック50と、ウエハ1に所定の洗浄液を供給する第1の洗浄液供給手段を有する第1の洗浄処理部25と、スピンチャック50と、ウエハ1に第1の洗浄処理部25で使用される洗浄液と異なる雰囲気の洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルを有する第2の洗浄処理部26と、ウエハ1を所定位置に搬送し、スピンチャック50との間でウエハ1を受け渡す搬送手段23とを具備し、第1の洗浄処理部25と第2の洗浄処理部26とを搬送手段23の搬送路22によって分離配置する。これにより、各洗浄処理工程中における異なる雰囲気成分の侵入を確実に阻止することができるので、ウエハ1の異なる雰囲気の洗浄液による汚染の防止が図れると共に、製品歩留まりの向上を図ることができる。

請求項（抜粋）：

被処理体を回転可能に保持する保持手段と、上記被処理体に所定の洗浄液を供給する第1の洗浄液供給手段とを有する第1の洗浄処理部と、上記保持手段と、上記被処理体に上記第1の洗浄処理部で使用される洗浄液と異なる雰囲気の洗浄液を供給する第2の洗浄液供給手段とを有する第2の洗浄処理部と、上記被処理体を所定位置に搬送し、上記保持手段との間で被処理体を受け渡す搬送手段とを具備し、上記第1の洗浄処理部と第2の洗浄処理部とを上記搬送手段の搬送路によって分離配置してなることを特徴とする洗浄処理装置。

IPC (4件)：

B08B 3/02 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 651

FI (4件)：

B08B 3/02 C ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 648 A ,  H01L 21/304 651 B

Fターム (12件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201AB34 ,  3B201BB03 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201CC01 ,  3B201CC13 ,  3B201CD11

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 半導体基板の洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-349014   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-301240   出願人：大日本スクリーン製造株式会社