特許
J-GLOBAL ID：200903055024954956
重ね合わせ誤差に対する拡大誤差およびレチクル回転誤差の影響の低減
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-604272
公開番号（公開出願番号）：特表2002-539605
出願日： 2000年02月11日
公開日（公表日）： 2002年11月19日
要約：
【要約】本発明は、ウェハアライメントに関する。設計(54)と第1および第2のアライメントマーク(60,62)とを含むレチクル(50)が採用される。第2のアライメントマークは、レチクル中心点(70)が第1および第2のアライメントマークの中点であるように第1のアライメントマークに対称である。第1のアライメントマークは、ウェハの表面層上に印刷される。第2のアライメントマークは、第1のアライメントマークからオフセットされた表面層上に印刷される。仮想アライメントマークが決定され、仮想アライメントマークは、印刷された第1および第2のアライメントマークの中点である。仮想アライメントマークは、ウェハを整列させることを促進するために採用される。第1および第2のアライメントマークの対称的な関係は、仮想アライメントマークに関して、レチクル回転および/またはレンズ拡大によるマークの印刷誤差の打ち消しをもたらす。仮想アライメントマークの採用は、重ね合わせ誤差の軽減を実質的に促進する。
請求項（抜粋）：
フォトリソグラフィプロセスにおいて使用されるレチクルであって、 設計領域と、 第1のアライメントマークと、 レチクル中心点が第1および第2のアライメントマークの中点であるように、第1のアライメントマークに対称である第2のアライメントマークとを含む、レチクル。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 9/00 H
, H01L 21/30 525 D
, H01L 21/30 502 P
