特許
J-GLOBAL ID：200903055036755975
荷電粒子ビーム露光方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
土井 健二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-062421
公開番号（公開出願番号）：特開平9-259811
出願日： 1996年03月19日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：
【要約】【課題】オゾンによるセルフクリーニング作用を利用した電子ビーム露光装置において、オゾンにより部品の損傷を防止する。【解決手段】荷電粒子ビームをパターンデータに基づいて整形し、露光される試料の所望の位置に整形された荷電粒子ビームを照射する荷電粒子ビーム露光方法において、荷電粒子ビームを発生する荷電粒子銃が収納される第一のチャンバーと、荷電粒子ビームが通過し荷電粒子ビームを整形し所望の位置に偏向させる第二のチャンバーとを真空的に分離し、第二のチャンバー内にオゾンガスを導入することを特徴とする。また、第二のチャンバー内では、上流側より下流側のオゾンガス濃度を高くする。
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビームをパターンデータに基づいて整形し、露光される試料の所望の位置に該整形された荷電粒子ビームを照射する荷電粒子ビーム露光方法において、荷電粒子ビームを発生する荷電粒子銃が収納される第一のチャンバーと、該荷電粒子ビームが通過し荷電粒子ビームを整形し前記所望の位置に偏向させる第二のチャンバーとを真空的に分離し、該第二のチャンバー内にオゾンガスを導入することを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
IPC (3件)：
H01J 37/305
, H01J 37/06
, H01L 21/027
H01J 37/305 B
, H01J 37/06 B
, H01L 21/30 541 Z
