特許
J-GLOBAL ID：200903055155564231

パターン形成体の検査方法

発明者：
山本 学

山本 学 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 山下 昭彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-319397
公開番号（公開出願番号）：特開2003-121299
出願日： 2001年10月17日
公開日（公表日）： 2003年04月23日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、容易に濡れ性の異なるパターンの欠陥を検出することができるパターン形成体の検査方法を提供することを主目的とする。【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、基板表面に少なくとも光触媒及びバインダを含有する光触媒含有層を形成した後、エネルギーをパターン照射することにより得られる親液性領域と撥液性領域とからなる濡れ性パターンを有するパターン形成体を準備する工程と、上記親液性領域と撥液性領域との屈折率の差異又は反射率の差異を用いて濡れ性パターンを検査する工程とを有することを特徴とするパターン形成体の検査方法を提供する。
請求項（抜粋）：
基板表面に少なくとも光触媒及びバインダを含有する光触媒含有層を形成した後、エネルギーをパターン照射することにより得られる親液性領域と撥液性領域とからなる濡れ性パターンを有するパターン形成体を準備する工程と、前記親液性領域と撥液性領域との屈折率の差異又は反射率の差異を用いて濡れ性パターンを検査する工程とを有することを特徴とするパターン形成体の検査方法。
IPC (5件)：
G01M 11/00 ,  G01N 13/00 ,  G01N 21/956 ,  G02B 5/20 101 ,  G01N 23/227
FI (5件)：
G01M 11/00 T ,  G01N 13/00 ,  G01N 21/956 Z ,  G02B 5/20 101 ,  G01N 23/227
Fターム (27件)：
2G001AA01 ,  2G001AA05 ,  2G001BA05 ,  2G001BA06 ,  2G001BA08 ,  2G001CA01 ,  2G001CA03 ,  2G001CA05 ,  2G001KA01 ,  2G001LA20 ,  2G001MA05 ,  2G001NA04 ,  2G051AA90 ,  2G051AB02 ,  2G051BA10 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051CB02 ,  2G051EB00 ,  2G086EE05 ,  2H048BA02 ,  2H048BA11 ,  2H048BA58 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB14 ,  2H048BB42
引用特許：
審査官引用 (4件)
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