偏光フィルタを形成する方法および偏光センシティブなフォトセンサへの適用と偏光を発生させる再生装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：青木篤 , 鶴田準一 , 島田哲郎 , 伊坪公一 , 榎原正巳 , 小林龍
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-519895
公開番号（公開出願番号）：特表2009-500665
出願日： 2006年06月22日
公開日（公表日）： 2009年01月08日
要約：

本発明は、偏光センシティブなセンサないし偏光するセンサを形成する方法と入射する光の偏光を測定するための偏光センシティブなフォトセンサの使用、回転角度および強い電場または磁場を測定するための偏光センシティブなセンサの形態並びに偏光を発生させる再生装置と偏光された信号を再現するため、あるいは独立した信号を再生するための偏光を発生させる再生装置の形態に関する。

請求項（抜粋）：

所望の広がりと方位を有する偏光センシティブなフィルタを形成する方法において、リソグラフィック方法によって、少なくとも1つの製造平面および/または配線平面内に格子構造が形成され、その幾何学的構造および方位が前もってマスクデータの設計によって定められており、その場合に好ましくは集積回路を設計する場合に一般的な構造大きさの回路および製造ステップのみが使用されることを特徴とする偏光センシティブなフィルタを形成する方法。

IPC (3件)：

G02B 5/30 , G02B 27/28 , H01L 31/10

FI (3件)：

G02B5/30 , G02B27/28 Z , H01L31/10 A

Fターム (19件)：

2H149AA17 , 2H149AA20 , 2H149AA22 , 2H149AB01 , 2H149BA01 , 2H149BA02 , 2H149BA23 , 2H149BB26 , 2H149FA41W , 2H149FC08 , 2H199AA12 , 2H199AA96 , 2H199AB13 , 2H199AB23 , 2H199AB52 , 5F049MA02 , 5F049NB03 , 5F049NB05 , 5F049TA13

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭58-042003
特開昭60-066203
偏光光学素子
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-036525 出願人：株式会社リコー

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