特許

J-GLOBAL ID：200903055261797415

基板処理装置および基板処理方法

発明者： 上田 一成 ,  工藤 博之
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-167899
公開番号（公開出願番号）：特開2001-057335
出願日： 2000年06月05日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
要約：

【要約】【課題】 処理室内の圧力変動を極力抑制し、圧力変動に伴う処理への悪影響を排除することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。【解決手段】 処理室51内の上方から下方に向けて送風するための送風ユニット61と、処理室51内の下方から排気するための排気管71,72とが設けられ、この処理室51内の圧力変動に連動して、コントローラ80によりスリットダンパー65の間隔およびオートダンパー73の開度のうち少なくとも1つが制御され、送風量または排気量が制御されて、処理室51内の圧力が略一定に維持される。

請求項（抜粋）：

その中で基板に所定の処理を施す処理室と、前記処理室内にその上方から下方に向けて送風する送風手段と、前記処理室内をその下方から排気する排気手段と、前記処理室内の圧力変動に連動して、前記送風手段の送風量および排気手段の排気量のうち少なくとも1つを調整し、処理室内の圧力を略一定に維持する制御手段とを具備することを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  F24F 7/06 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/306

FI (5件)：

H01L 21/30 564 C ,  F24F 7/06 C ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 569 C ,  H01L 21/306 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-230987   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-149171   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-161548   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開昭62-094930