特許
J-GLOBAL ID:200903055268775298

有機ELパネルの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石川 泰男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-418414
公開番号(公開出願番号):特開2005-183045
出願日: 2003年12月16日
公開日(公表日): 2005年07月07日
要約:
【課題】 製造時間やコストを抑え、簡易な施設で製造ができる有機ELパネルの製造方法を提供する。【解決手段】 透明基材1上に第一電極2、有機材料帯3、第二電極4および保護層5を有する有機ELパネル10の製造方法において、有機材料帯3を透明基材1上の全面または部分的に形成し、保護層5を少なくとも有機材料帯3および第二電極4を覆うように形成し、有機材料帯3の予め定められた発光部31以外の位置32に電子線または紫外線の少なくともいずれかを照射することにより上記課題を解決する。有機材料帯3の透明基材1を有しない側から、有機材料帯3に電子線を照射することが好ましい。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基材上に第一電極、有機材料帯、第二電極および保護層を有する有機ELパネルの製造方法において、 前記有機材料帯を前記基材上の全面または部分的に形成し、 前記保護層を少なくとも前記有機材料帯および前記第二電極を覆うように形成し、 前記有機材料帯の予め定められた発光部以外の位置に電子線または紫外線の少なくともいずれかを照射することを特徴とする有機ELパネルの製造方法。
IPC (2件):
H05B33/10 ,  H05B33/14
FI (2件):
H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (5件):
3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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