特許

J-GLOBAL ID：200903055278961685

ワイヤーグリッド偏光子及びその製造方法

発明者： アン,セー・ウォン ,  イ,キ・ドン ,  イ,スン・ウン ,  ユン,サン・スー ,  キム,ジン・スン ,  パク,ジョー・ド
出願人/特許権者： エルジー電子株式会社
代理人 (2件)： 山川 政樹 ,  山川 茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-269483
公開番号（公開出願番号）：特開2006-084776
出願日： 2004年09月16日
公開日（公表日）： 2006年03月30日
要約：

【課題】本発明は可視光線帯域で作動するワイヤーグリッド偏光子を製作する際に、エンボス技法を利用してワイヤーグリッド偏光子を簡単に、反復的に生産できるようにして低価で大量生産することができるようにする。 また、本発明は可視光線帯域の赤R、緑G、青Bにおける偏光性能が優れたワイヤーグリッド偏光子を提供する。【解決手段】本発明によるワイヤーグリッド偏光子製造方法は、型を製作する段階と、基板上に金属薄膜とポリマーを所定の順序で形成する段階と、型を利用してポリマーを成形する段階と、成形されたポリマーを利用して金属薄膜をエッチングして金属格子パターンを形成する段階と、ポリマーを除去する段階とを含むことを特徴とする。【選択図】図4A-4E

請求項（抜粋）：

基板と、 前記基板上に、型により形成されて金属格子の周期が120nm以下である金属格子パターンが含まれることを特徴とするワイヤーグリッド偏光子。

IPC (2件)：

G02B 5/30 ,  G02B 27/28

FI (2件)：

G02B5/30 ,  G02B27/28 Z

Fターム (6件)：

2H049BA05 ,  2H049BA45 ,  2H049BC01 ,  2H049BC08 ,  2H099CA17 ,  2H099DA05

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ナノメ-トルのスケ-ルのパタ-ンの複製
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-327186   出願人：コーニングインコーポレイテッド
• 薄膜パターン製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-270458   出願人：株式会社日立製作所