特許
J-GLOBAL ID：200903055313773129
はんだボールバンプの形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-094998
公開番号（公開出願番号）：特開平9-283524
出願日： 1996年04月17日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
要約：
【要約】【課題】 プラズマ発生時のインピーダンスマッチングが容易にとれ、ウェハの処理数が増加して、プラズマ処理室の状態が変化しても、終始安定したプラズマ放電下でのウェハ処理を可能とする。【解決手段】 フォトレジスト膜6に電極パッド2を備えたウェハをプラズマ処理装置の加工ステージに載置する工程と、プラズマ処理室のプラズマ処理を開始する際の放電電力を段階的に増加させる工程と、次いで一定の放電電力下で実質的なウェハ処理を行う工程から成るはんだボールバンプの形成方法。
請求項（抜粋）：
はんだ成膜工程を含むはんだボールバンプの形成方法において、フォトレジストのリフトオフを用いてBLM膜をパターニングする前に、前記フォトレジスト膜に開口部を有するウェハをプラズマ処理装置の加工ステージに載置する工程と、前記プラズマ処理装置のプラズマ処理を開始する際の放電電力を段階的に増加させる工程と、次いで、一定の放電出力下で実質的なウェハ処理を行う工程とを含むはんだボールバンプの形成方法。
IPC (2件)：
H01L 21/321
, H01L 21/3065
H01L 21/92 604 C
, H01L 21/302 N
, H01L 21/92 603 D
, H01L 21/92 604 P
