特許
J-GLOBAL ID：200903055360860056
電子ビ-ム露光装置用ブロックマスクの作成方法及びブロックマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-373619
公開番号（公開出願番号）：特開2000-195781
出願日： 1998年12月28日
公開日（公表日）： 2000年07月14日
要約：
【要約】【課題】 ブロックマスクの開孔パターンを電子ビーム露光装置を利用して露光する製作方法において、ずれの影響を低減して不良率を低減する。【解決手段】 複数の偏向手段31,32,33を備える電子ビーム露光装置を使用して複数のエリア52を有し、各エリアに開孔パターンが形成されたブロックマスクを露光する電子ビーム露光装置用ブロックマスクの作成方法であって、各偏向手段の偏向範囲でエリアより大きな偏向範囲の内で最小の最小偏向範囲を決定するステップ101,105,109 と、エリアを最小偏向範囲より小さい複数の露光領域に分割するステップであって、各エリアが単一の露光領域内に入るように分割するステップ103,107,111 と、各露光領域内の開孔パターンを露光するステップ104,108,112 とを備える。
請求項（抜粋）：
試料上への電子ビームの照射位置を変化させる複数の偏向手段を備え、各偏向手段の偏向範囲はそれぞれ異なり、前記複数の偏向手段の偏向量を合成して全体として所望の偏向量を実現する電子ビーム露光装置を使用して、複数のエリアを有し、各エリアに開孔パターンが形成された電子ビーム露光装置用ブロックマスクの前記開孔パターンを露光する電子ビーム露光装置用ブロックマスクの作成方法であって、各偏向手段の偏向範囲で、前記エリアより大きな偏向範囲の内で最小の最小偏向範囲を決定するステップと、前記電子ビーム露光装置用ブロックマスクの前記複数のエリアを、前記最小偏向範囲より小さい複数の露光領域に分割するステップであって、各エリアが単一の露光領域内に入るように分割するステップと、各露光領域内の前記開孔パターンを、前記最小偏向範囲及びそれより大きな偏向範囲を有する前記偏向手段による前記偏向量を一定値に固定した上で露光するステップとを備えることを特徴とする電子ビーム露光装置用ブロックマスクの作成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 541 S
, G03F 1/16 B
2H095BA08
, 2H095BB02
, 2H095BE08
, 5F056AA06
, 5F056BA08
, 5F056CA02
, 5F056CB14
, 5F056EA06
, 5F056FA06
