特許
J-GLOBAL ID：200903012095078498
電子線描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-061242
公開番号（公開出願番号）：特開平5-226230
出願日： 1992年02月14日
公開日（公表日）： 1993年09月03日
要約：
【要約】【目的】 多種類のパターンを転写できると共に、電子線をそれら多種類のパターンの間で短い偏向手段で偏向する。【構成】 ステンシルマスク6にそれぞれ3行×3列のパターン領域よりなる4個のパターン群20〜23を形成する。パターン群20〜23の間での電子線の偏向は低速で短い電磁偏向器で行い、パターン群20〜23の内部での電子線の偏向は高速の静電偏向器で行う。
請求項（抜粋）：
縮小転写による描画と可変成形ビームによる描画とを切り換え自在な電子線描画装置において、それぞれ複数のパターンよりなるパターン群が複数群形成されたパターン形成用の電子線透過マスクと、前記一のパターン群からの他のパターン群に電子線を偏向するための低速の偏向手段と、前記複数のパターン群の内部でそれぞれ電子線を偏向するための高速の偏向手段とを設けた事を特徴とする電子線描画装置。
FI (2件)：
H01L 21/30 341 B
, H01L 21/30 341 S
