薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：野▲崎▼ 照夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-001471
公開番号（公開出願番号）：特開2002-208109
出願日： 2001年01月09日
公開日（公表日）： 2002年07月26日
要約：

【要約】【課題】従来、下部コア層及び上部コア層として使用されるNiFe合金膜では、飽和磁束密度Bsは1.9Tよりも小さかった。【解決手段】下部磁極層19及び/または上部磁極層21を、Feの組成比が76質量%以上で90質量%以下、あるいは平均結晶粒径が130Å以上で175Å以下で且つFeの組成比が70質量%以上で90質量%以下のNiFe合金でメッキ形成する。これにより飽和磁束密度を1.9T以上にでき、高記録密度化に優れた薄膜磁気ヘッドを製造することができる。

請求項（抜粋）：

磁性材料製の下部コア層と、前記下部コア層上に磁気ギャップを介して形成された上部コア層と、両コア層に記録磁界を与えるコイル層とを有する薄膜磁気ヘッドにおいて、少なくとも一方のコア層は、組成式がNi1-XFeXで示され、Feの組成比Xが76質量%以上で90質量%以下である軟磁性膜で形成されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。

IPC (3件)：

G11B 5/31 , C25D 3/56 , C25D 7/00

FI (3件)：

G11B 5/31 C , C25D 3/56 B , C25D 7/00 K

Fターム (18件)：

4K023AB12 , 4K023CB09 , 4K023CB12 , 4K023CB13 , 4K023DA06 , 4K023DA11 , 4K024AA15 , 4K024BA01 , 4K024BB14 , 4K024CA01 , 4K024CA02 , 4K024CA07 , 4K024GA16 , 5D033BA03 , 5D033BA08 , 5D033BA12 , 5D033DA04 , 5D033DA31

引用特許：

審査官引用 (4件)

薄膜磁気ヘッド及び記録再生分離型磁気ヘッドとそれを用いた磁気記憶再生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-342521 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-063412
薄膜磁気ヘッドの製造方法、薄膜磁気ヘッド及び磁気記憶装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-217590 出願人：株式会社日立製作所

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