特許

J-GLOBAL ID：200903055446737494

成膜装置

発明者： 石川 博一 ,  柿沼 正康
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-186372
公開番号（公開出願番号）：特開2000-017437
出願日： 1998年07月01日
公開日（公表日）： 2000年01月18日
要約：

【要約】【課題】 成膜室の水分の分圧を低く保つことにより、十分な接着力を有し且つ透過率の良い接着層を基板に成膜できる成膜装置を提供する。【解決手段】 本発明の成膜装置は、スパッタ室3 の中央部に、ロールフィルム5 を表面に接触させて冷却するためのクーリングドラム7 を有する。該ドラム7周囲に、ロール室9 、SiOx成膜室11、モニター室13を配置し、SiOx成膜室11にスパッタカソード27を配置し、該成膜室11内に水分を強力に排気するクライオパネル等の水分用ポンプ29を配置し、これにより成膜室11内の水分の分圧を低く保つ。そして成膜後のSiOx膜の光の吸収をInSitu透過光モニター35でモニターし、SiOx膜の光の透過率からSiOx膜のxの値を判断し、そのxの値が所望の値になるようにMFC33で酸素流量を調整する。これにより、十分な接着力を有し且つ透過率の良い接着層を基板に成膜できる。

請求項（抜粋）：

基板上に接着膜を成膜するための成膜室を備えた成膜装置であって、該成膜室内に水分を排気する水分排気手段を具備することを特徴とする成膜装置。

IPC (3件)：

C23C 14/54 ,  C23C 14/56 ,  C08J 7/06

FI (3件)：

C23C 14/54 B ,  C23C 14/56 A ,  C08J 7/06 Z

Fターム (17件)：

4F006AA35 ,  4F006AB74 ,  4F006AB76 ,  4F006BA01 ,  4F006DA01 ,  4F006EA02 ,  4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BA46 ,  4K029BA48 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029CA06 ,  4K029DA02 ,  4K029EA00 ,  4K029EA04 ,  4K029FA09

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 光学的素子又は装置、これらの製造方法、及びその製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-220545   出願人：ソニー株式会社
• 薄膜形成方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-242188   出願人：キヤノン株式会社