特許

J-GLOBAL ID：200903055486005496

グラファイトナノファイバー薄膜形成用熱CVD装置

発明者： 阿川 義昭 ,  深沢 博之 ,  古瀬 晴邦
出願人/特許権者： 株式会社アルバック
代理人 (1件)： 北村 欣一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-313028
公開番号（公開出願番号）：特開2002-121673
出願日： 2000年10月13日
公開日（公表日）： 2002年04月26日
要約：

【要約】【課題】 グラファイトナノファイバー薄膜形成用熱CVD装置を、該薄膜形成プロセスに利用される炭素含有ガスと水素ガスとの再利用により、その混合ガスの消費量を少なくし、装置のランニングコストを低くできるように構成する。【解決手段】 炭素含有ガスと水素ガスとの混合ガスを真空チャンバー12に導入する混合ガス供給系18が接続された真空チャンバーに排ガス循環手段21を付設する。この場合、該排ガス循環手段は、真空チャンバーから排気されてくる排ガス中のH2Oをトラップして、H2Oの除去された排ガスを混合ガス供給系に戻し、再利用するように構成されている。

請求項（抜粋）：

炭素含有ガスと水素ガスとの混合ガスを真空チャンバーに導入する混合ガス供給系を備え、基板加熱手段によって被処理基板を加熱しつつ、真空チャンバー外部のガス源に接続された混合ガス供給系から混合ガスを真空チャンバー内に導入することで被処理基板上にグラファイトナノファイバー薄膜を形成する熱CVD装置において、該真空チャンバーに排ガス循環手段が付設され、該排ガス循環手段は、真空チャンバーから排気されてくる排ガス中のH2Oをトラップして、H2Oの除去された排ガスを混合ガス供給系に戻し、再利用するように構成されていることを特徴とするCVD装置。

IPC (6件)：

C23C 16/44 ,  B01J 19/00 ,  C01B 31/02 101 ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/46 ,  D01F 9/127

FI (6件)：

C23C 16/44 E ,  B01J 19/00 K ,  C01B 31/02 101 F ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/46 ,  D01F 9/127

Fターム (32件)：

4G046CA01 ,  4G046CA02 ,  4G046CB03 ,  4G046CB08 ,  4G046CC06 ,  4G046CC09 ,  4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BC04 ,  4G075CA02 ,  4G075CA65 ,  4G075DA01 ,  4G075EB01 ,  4G075EC01 ,  4K030AA14 ,  4K030AA17 ,  4K030BA27 ,  4K030BB12 ,  4K030CA06 ,  4K030CA17 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030EA12 ,  4K030HA04 ,  4K030JA05 ,  4K030JA06 ,  4K030KA41 ,  4L037CS04 ,  4L037FA02 ,  4L037PA03 ,  4L037PA06 ,  4L037PA19

引用特許：

審査官引用 (4件)

• カーボンナノチューブデバイスおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-305512   出願人：キヤノン株式会社
• 特開平2-124799
  
• 薄膜形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-345145   出願人：東レ株式会社
• 真空排気システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-074620   出願人：株式会社荏原製作所