特許
J-GLOBAL ID：200903055565735556

清浄空気生成装置及び清浄空気の生成方法

発明者：
西村 浩一

西村 浩一 について

, 
稲葉 仁

稲葉 仁 について

, 
佐藤 峰彦

佐藤 峰彦 について


出願人/特許権者：
高砂熱学工業株式会社

高砂熱学工業株式会社 について


代理人 (4件)： 遠山 勉 ,  松倉 秀実 ,  永田 豊 ,  川口 嘉之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-307181
公開番号（公開出願番号）：特開2004-141721
出願日： 2002年10月22日
公開日（公表日）： 2004年05月20日
要約：
【課題】空気中の汚染物質及びその前駆物質が除かれた清浄な低露点空気を生成する。【解決手段】空気中の極性分子を吸着する吸着剤に低露点空気供給手段2から低露点空気を供給し、吸着剤と低露点空気とを接触させることにより、二酸化窒素、一酸化窒素及びオゾンが除かれた清浄な低露点空気を生成する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
汚染物質の前駆物質が除かれた低露点空気を生成する装置であって、低露点空気供給手段と、低露点空気から汚染物質の前駆物質を除去する除去手段とを有し、 前記低露点空気供給手段は、前記除去手段に低露点空気を供給する手段であり、 前記除去手段は、空気中の極性分子を吸着する吸着剤を、前記低露点空気供給手段から供給される低露点空気に接触する位置に有する手段である、清浄空気生成装置。
IPC (4件)：
B01D53/06 ,  F24F3/147 ,  F24F7/00 ,  F24F7/06
FI (4件)：
B01D53/06 A ,  F24F3/147 ,  F24F7/00 A ,  F24F7/06 C
Fターム (13件)：
3L053BC02 ,  3L053BC03 ,  3L053BC08 ,  3L058BE02 ,  3L058BF01 ,  4D012CA10 ,  4D012CC02 ,  4D012CD01 ,  4D012CE01 ,  4D012CF04 ,  4D012CG01 ,  4D012CH05 ,  4D012CH08
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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