特許
J-GLOBAL ID：200903018758954295

清浄空気製造方法及び供給システム

発明者：
西村 浩一

西村 浩一 について

, 
岡村 典明

岡村 典明 について


出願人/特許権者：
高砂熱学工業株式会社

高砂熱学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 金本 哲男 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-216649
公開番号（公開出願番号）：特開2001-038137
出願日： 1999年07月30日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
要約：
【要約】【課題】 従来よりも少ないエネルギで,ガス状不純物濃度が1ppb以下の清浄空気を製造する。【解決手段】 シリカゲル又は金属珪酸塩を有する回転自在なロータを有する乾式減湿装置10,20,30を3段直列に系統接続し,1段目の乾式減湿装置10で減湿処理した空気を2段目の乾式減湿装置20で減湿処理し,2段目の乾式減湿装置20で減湿処理した空気をさらに3段目の乾式減湿装置30で減湿処理して清浄化する。
請求項（抜粋）：
ガス状不純物濃度が1ppb以下の清浄空気を製造する方法において,シリカゲル又は金属珪酸塩を有する回転自在なロータ内に処理空気を通過させて当該処理空気を減湿させる乾式減湿装置を3段直列に系統接続し,1段目の乾式減湿装置で減湿処理した空気を2段目の乾式減湿装置で減湿処理し,前記2段目の乾式減湿装置で減湿処理した空気をさらに3段目の乾式減湿装置で減湿処理して清浄化することを特徴とする,清浄空気製造方法。
IPC (2件)：
B01D 53/26 101 ,  B01D 53/06
FI (2件)：
B01D 53/26 101 B ,  B01D 53/06 A
Fターム (32件)：
4D012CA01 ,  4D012CA10 ,  4D012CC05 ,  4D012CD01 ,  4D012CE01 ,  4D012CE03 ,  4D012CF02 ,  4D012CF05 ,  4D012CF10 ,  4D012CG01 ,  4D012CJ02 ,  4D012CJ04 ,  4D012CK03 ,  4D052AA00 ,  4D052CB04 ,  4D052DA02 ,  4D052DA06 ,  4D052DB01 ,  4D052DB04 ,  4D052FA01 ,  4D052GA01 ,  4D052GA04 ,  4D052GB02 ,  4D052GB03 ,  4D052GB04 ,  4D052GB09 ,  4D052GB11 ,  4D052GB12 ,  4D052HA01 ,  4D052HA36 ,  4D052HB02 ,  4D052HB06
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 浸漬型膜処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-360025   出願人：栗田工業株式会社
  • 脱臭防湿方法とその装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-155405   出願人：高砂熱学工業株式会社
  • 乾式減湿システム
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-117019   出願人：高砂熱学工業株式会社

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