特許
J-GLOBAL ID：200903055591219191
透光性電磁波シールド膜およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-430096
公開番号（公開出願番号）：特開2004-221565
出願日： 2003年12月25日
公開日（公表日）： 2004年08月05日
要約：
【課題】 高い電磁波シールド性と高い透明性とを同時に有し且つ、モアレなどの点でもPDP画質劣化が非常に小さい電磁波シールド材料を提供すること。【解決手段】 支持体と該支持体上に形成されたメッシュ状の導電性金属薄膜を有するPDP用透光性電磁波シールド膜であって、メッシュを構成する線の線幅が3〜18μmであり、かつ、メッシュを構成する線の交点における交点太り率が2.0以下であることを特徴とする。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
支持体と該支持体上に形成されたメッシュ状の導電性金属薄膜を有する透光性電磁波シールド膜であって、メッシュを構成する線の線幅が3〜18μmであり、かつ、メッシュを構成する線の交点における交点太り率が2.0以下であることを特徴とする、透光性電磁波シールド膜。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
5E321AA04
, 5E321BB23
, 5E321GG05
, 5E321GH01
出願人引用 (3件)
審査官引用 (8件)
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