特許
J-GLOBAL ID：200903055614919587

パタン形成素子の製造装置およびその方法

発明者：
田中 治夫

田中 治夫 について


出願人/特許権者：
ローム株式会社

ローム株式会社 について


代理人 (1件)： 古谷 栄男 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-311752
公開番号（公開出願番号）：特開2000-144382
出願日： 1998年11月02日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：
【要約】【課題】 自由度が高くかつ微細なパタンを基板に形成することができ、かつ斜面の上部層の膜厚をほぼ均一化することができるパタン形成素子の製造装置およびその方法の提供。【解決手段】 細線3とフィルムマスク4との組み合わせによってシャドーマスク5を構成し、シャドーマスク5を通じて蒸発源10からの蒸発原子20をガラス基板2上に与える。フィルムマスク4によって自由度の高いパタンを実現し、細線3によって微細なパタンを実現する。また、細線3に断面形状が円形のものを用い、円形の曲面に沿って端部が緩やかな斜面をして形成されるパタンを得て、上部層の膜厚を均一化する。また、所定の張力をもって配置された細線3上にガラス基板2を乗せて、またはさらにウエイトや磁石を乗せて、下方から蒸着を行うことによって、ガラス基板2に細線3を密着させ正確なパタンを形成する。
請求項（抜粋）：
基板に向けて与えられる粒子の一部を遮断して、基板にパタンを形成するためのマスクを備えたパタン形成素子の製造装置であって、開口部が形成された面状マスクと、線状マスクとの組み合わせによってマスクを構成する、ことを特徴とするパタン形成素子の製造装置。
IPC (3件)：
C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14
FI (3件)：
C23C 14/24 G ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A
Fターム (17件)：
3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029BA62 ,  4K029BC03 ,  4K029BC09 ,  4K029BD00 ,  4K029BD02 ,  4K029CA01 ,  4K029DB18 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03 ,  4K029HA04
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (15件)
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