特許
J-GLOBAL ID:200903055619587469
スルホン化高分子膜の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-396377
公開番号(公開出願番号):特開2003-192805
出願日: 2001年12月27日
公開日(公表日): 2003年07月09日
要約:
【要約】【課題】プロトン伝導性、ガス遮断性、機械的特性などの特性を均一に発現させるとともに、膜-電極接合体の調製時において、接合部分の欠陥が生じにくい燃料電池用膜として有用な皺、脹れ、凹凸がないスルホン化高分子膜の製造方法を提供する。【解決手段】芳香族環を有する高分子化合物(A)の芳香族環の一部分にスルホン酸基が置換された高分子化合物(B)からなるスルホン化高分子膜の製造方法であって、膜に張力をかけながら乾燥する工程、あるいは、膜を枠体に固定して乾燥する工程などを含む製造方法により達成される。
請求項(抜粋):
芳香族環を有する高分子化合物(A)の芳香族環の一部にスルホン酸基を有する高分子化合物(B)を用いてなるスルホン化高分子膜の製造方法であって、膜に張力を与えて乾燥する工程を含むスルホン化高分子膜の製造方法。
IPC (4件):
C08J 5/18 CEZ
, H01M 8/02
, H01M 8/10
, C08L101:02
FI (4件):
C08J 5/18 CEZ
, H01M 8/02 P
, H01M 8/10
, C08L101:02
Fターム (14件):
4F071AA62
, 4F071AG01
, 4F071AG14
, 4F071AG21
, 4F071AG34
, 4F071AH15
, 4F071BB07
, 4F071BC01
, 5H026AA06
, 5H026BB03
, 5H026BB10
, 5H026CX05
, 5H026EE18
, 5H026HH08
引用特許:
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