特許

J-GLOBAL ID：200903055642648971

表面検査装置

発明者： 長 谷 川 昇 ,  國 永 学 ,  内 藤 修 治
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社
代理人 (1件)： 杉信 興
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-083593
公開番号（公開出願番号）：特開平8-278259
出願日： 1995年04月10日
公開日（公表日）： 1996年10月22日
要約：

【要約】【目的】 表面異常の有無の識別精度を改善する。【構成】 照明装置2から検査対象物1に入射する照明光の、検査位置PLでの入射光分布幅(角度)θLが可変になるように照明装置2を構成する。受光装置3の視野θv内における平均的な受光レベルに、表面異常の有無に応じて確実な違いが生じるような状態に調整可能になる。大きさが可変のスリットやアイリス絞りを介して照明することによりθLを可変にする。

請求項（抜粋）：

検査対象物の表面に光を照射する照明装置と、前記検査対象物に照射された光の正反射方向に設置された受光装置と、該受光装置に入射した光に応じて前記検査対象物の表面の状態を識別する識別装置を備える表面検査装置において:前記照明装置に、少なくとも一軸方向に対して拡散する光を投射する光源機構と、該光源機構と光出射口との間の光路上に設置された可変絞り機構を設けたことを特徴とする、表面検査装置。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 表面検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-206061   出願人：株式会社リコー
• 半導体素子検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-099191   出願人：松下電子工業株式会社