特許
J-GLOBAL ID：200903055677534820

洗浄乾燥装置及び洗浄システム

発明者：
清水 泰好

清水 泰好 について


出願人/特許権者：
インフィニティ株式会社

インフィニティ株式会社 について


代理人 (4件)： 萩原 康司 ,  金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  金田 周二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-249957
公開番号（公開出願番号）：特開2007-061713
出願日： 2005年08月30日
公開日（公表日）： 2007年03月15日
要約：
【課題】乾燥室を効率的に加熱できる洗浄乾燥装置及び洗浄システムを提供する。【解決手段】被処理体を加熱された洗浄液によって洗浄する洗浄室S1と,被処理体を乾燥させる乾燥室S2とを備えた洗浄乾燥装置2において,洗浄室S1に洗浄液を供給する洗浄液供給路42aを備え,被処理体を入れるバスケット23を乾燥室S2内で回転させるバスケット回転機構90を備え,乾燥室S2の内部には,加熱された洗浄液を送液する送液管45を設けた。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
被処理体を加熱された洗浄液によって洗浄する洗浄室と,被処理体を乾燥させる乾燥室とを備えた洗浄乾燥装置であって, 前記洗浄室に前記洗浄液を供給する洗浄液供給路が備えられ, 被処理体を入れるバスケットを前記乾燥室内で回転させるバスケット回転機構が備えられ, 前記乾燥室の内部に,前記加熱された洗浄液を送液する送液管が設けられていることを特徴とする,洗浄乾燥装置。
IPC (7件)：
B08B 3/02 ,  B08B 3/06 ,  B08B 3/10 ,  C23G 5/04 ,  F26B 11/08 ,  F26B 21/00 ,  F26B 23/00
FI (7件)：
B08B3/02 B ,  B08B3/06 ,  B08B3/10 Z ,  C23G5/04 ,  F26B11/08 ,  F26B21/00 C ,  F26B23/00 A
Fターム (30件)：
3B201AA48 ,  3B201AB33 ,  3B201AB45 ,  3B201BB22 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201BB94 ,  3B201CC12 ,  3B201CD22 ,  3L113AA04 ,  3L113AB02 ,  3L113AC16 ,  3L113AC48 ,  3L113AC58 ,  3L113BA04 ,  3L113CA08 ,  3L113CA10 ,  3L113DA03 ,  3L113DA06 ,  4K053PA01 ,  4K053PA17 ,  4K053QA04 ,  4K053QA05 ,  4K053RA05 ,  4K053RA31 ,  4K053SA08 ,  4K053TA19 ,  4K053XA09 ,  4K053XA11 ,  4K053XA26
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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