特許
J-GLOBAL ID：200903055693828680
プロセス性能監視とプロセス装置監視および制御への統合
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
角田 嘉宏
, 高石 ▲さとる▼
, 古川 安航
, 西谷 俊男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-195282
公開番号（公開出願番号）：特開2004-038596
出願日： 2002年05月29日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：
【課題】プロセス制御システムに関連する複数のデータ(装置、プロセス制御および性能データ)を全体的に最適な利用ができる統合システムを提供する。【解決手段】プラント内のプロセス制御システムであって、装置データを収集するプロセス装置監視デバイスと、プロセス制御データを収集するプロセス制御監視デバイスと、プロセス性能監視を実行し、プロセス性能データを生成するように構成されるプロセスモデルと、前記装置データ、前記プロセス制御データおよび前記プロセス性能データの内二つ以上を用いて、前記プラント内の機能えお実行するソフトウェアルーチンを実現するコンピュータシステムを備える。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
プラント内のプロセス制御システムであって、
装置データを収集するプロセス装置監視デバイスと、
プロセス制御データを収集するプロセス制御監視デバイスと、
プロセス性能監視を実行し、プロセス性能データを生成するように構成されるプロセスモデルと、
前記装置データ、前記プロセス制御データ、および前記プロセス性能データの内二つ以上を用いて、前記プラント内の機能を実行するソフトウェアルーチンを実現するコンピュータシステムと
を備えることを特徴とするプロセス制御システム。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
5H223AA01
, 5H223BB01
, 5H223CC08
, 5H223DD05
, 5H223DD07
, 5H223EE30
