特許
J-GLOBAL ID:200903055710548816

デンドリマーの製造方法及びビルディングブロック化合物並びにチオフェン系化合物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 栗原 浩之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-189099
公開番号(公開出願番号):特開2004-131694
出願日: 2003年06月30日
公開日(公表日): 2004年04月30日
要約:
【課題】「Convergent法」によりチエニレン構造を有する新規なデンドリマーの製造方法を提供する。【解決手段】下記一般式(1)の繰り返し構造単位を有するデンドリマーの製造方法であって、末端部分を構成するチェニレン構造を有する化合物のチオフェン環のα位水素をsuzukiクロスカップリング反応する活性基V1に変換する反応工程1と、線状部及び分岐部Yに2つの活性基V2を有する化合物を工程1で得た化合物とsuzukiクロスカップリング反応させる反応工程2と、この生成物のチオフェン環のα位水素を活性基V1に変換すると共にこれに工程2で得た化合物を反応させて次世代のデンドロンを得る反応工程3と、この反応工程3を繰り返す工程を具備する。(Zは2価の有機基又は単結合、R1及びR2は水素、アルキル基等、Yは3価の有機基、活性基V1及びV2は互いにsuzukiクロスカップリング反応する活性基。)【選択図】なし
請求項(抜粋):
チエニレン構造を含む線状部と置換基を有してもよい3価の有機基である分岐部Yとからなる下記一般式(1)の繰り返し構造単位を有するデンドリマーをConvergent法により製造するデンドリマーの製造方法であって、末端部分を構成するチエニレン構造を有する下記化合物(a)のチオフェン環のα位水素をsuzukiクロスカップリング反応する活性基V1に変換して下記化合物(b)とする反応工程1と、線状部及び分岐部Yを有すると共に分岐部Yに前記活性基V1とsuzukiクロスカップリング反応する2つの活性基V2を有する下記化合物(c)と前記化合物(b)とをsuzukiクロスカップリング反応させて下記化合物(d)を得る反応工程2と、この生成物のチオフェン環のα位水素をsuzukiクロスカップリング反応する活性基V1に変換すると共にこれに下記化合物(c)を反応させて次世代のデンドロンを得る反応工程3と、この反応工程3を必要に応じて繰り返してデンドリマーとする工程とを具備することを特徴とするデンドリマーの製造方法。
IPC (5件):
C08G61/12 ,  C07D333/12 ,  C07D333/18 ,  C07D333/20 ,  C07D333/28
FI (5件):
C08G61/12 ,  C07D333/12 ,  C07D333/18 ,  C07D333/20 ,  C07D333/28
Fターム (12件):
4C023CA07 ,  4H039CA41 ,  4H039CA42 ,  4H039CD20 ,  4H039CD90 ,  4J032BA03 ,  4J032BA04 ,  4J032BA05 ,  4J032BB01 ,  4J032BC01 ,  4J032BC03 ,  4J032CG01
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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引用文献:
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