特許
J-GLOBAL ID：200903055721727801
膜厚測定方法および膜厚測定装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
速水 進治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-009304
公開番号（公開出願番号）：特開2003-214831
出願日： 2002年01月17日
公開日（公表日）： 2003年07月30日
要約：
【要約】【課題】 基板上に形成された薄膜の膜厚を正確に測定する。【解決手段】 膜厚測定装置18は、基板32上に形成された測定対象の薄膜34に電子ビームを照射し、その際に基板32に流れる基板電流値を測定する。膜厚測定装置18は、電子ビームの照射により薄膜34近傍に発生した電荷分布の影響、または薄膜34近傍の基板表面形状を考慮して、基板電流値を補正する。膜厚測定装置18は、標準試料における膜厚と基板電流との関係を示す参照データを取得し、参照データを考慮して、補正された基板電流値から測定対象の薄膜の膜厚を算出する。
請求項（抜粋）：
基板上に形成された測定対象の薄膜に電子ビームを照射した際に前記基板に流れる基板電流値を利用して前記薄膜の膜厚を測定する方法であって、標準試料における膜厚と基板電流との関係を示す参照データを取得する工程と、基板上に形成された測定対象の薄膜に電子ビームを照射した際に前記基板に流れる基板電流値を取得する工程と、前記電子ビームの照射により前記薄膜近傍に発生した電荷分布の影響を考慮して前記基板電流値を補正する工程と、前記参照データを考慮して、補正された前記基板電流値に基づき前記測定対象の薄膜の膜厚を算出する工程と、を含むことを特徴とする膜厚測定方法。
Fターム (14件)：
2F067AA27
, 2F067CC17
, 2F067DD10
, 2F067FF01
, 2F067GG06
, 2F067HH06
, 2F067HH13
, 2F067JJ05
, 2F067KK04
, 2F067LL00
, 2F067PP12
, 2F067QQ02
, 2F067QQ03
, 2F067RR12
