特許
J-GLOBAL ID：200903055748527545

成膜装置

発明者：
二川 正康

二川 正康 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (1件)： 小池 隆彌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-308546
公開番号（公開出願番号）：特開2000-129442
出願日： 1998年10月29日
公開日（公表日）： 2000年05月09日
要約：
【要約】【課題】 コンパクトでメンテナンスが容易な成膜装置を提供する。【解決手段】 ロード室1とアンロード室7、加熱室3と第3成膜室6、第1成膜室4と第2成膜室5がそれぞれ背中合わせになって1組となり、この3組が一列に連なって配置されており、列の1端である第1成膜室4と第2成膜室5には、ゲートバルブ2を介して真空回転室10が接続されている。保持具9に保持された成膜基板8は、第1成膜室4から回転室10に搬送され、搬送方向を180度転回し、第2成膜室5に搬入される。
請求項（抜粋）：
基板に対して真空中で成膜処理を施す成膜室やロード室といった複数の処理室と、前記各処理室を隔離するゲートバルブと、前記基板を保持した保持具を前記処理室の間を搬送する搬送系とから構成される成膜装置であって、前記処理室を並列に配設したものを一単位とする複合処理室を複数単位直列に配置し、その両端に前記保持具を回転する回転室または回転装置をそれぞれ配置したことを特徴とする成膜装置。
IPC (2件)：
C23C 14/56 ,  H01L 21/68
FI (2件)：
C23C 14/56 G ,  H01L 21/68 A
Fターム (13件)：
4K029JA05 ,  4K029KA01 ,  4K029KA09 ,  5F031CA05 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA12 ,  5F031FA22 ,  5F031GA43 ,  5F031GA47 ,  5F031MA06 ,  5F031MA29 ,  5F031NA09
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • プラズマCVD装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-129497   出願人：三菱重工業株式会社
  • インライン式成膜装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-099648   出願人：アネルバ株式会社

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