表面処理装置およびその表面処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：船橋國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-297399
公開番号（公開出願番号）：特開平7-124776
出願日： 1993年11月02日
公開日（公表日）： 1995年05月16日
要約：

【要約】【目的】本発明は、高出力レーザ発振器を備えることによって、広い面積を1ショットの照射によって表面処理することを可能にするとともに、レーザ光の走査を可能にし、発振出力の安定化を図って、表面処理の均一性の向上を図る。【構成】表面処理装置1 には、例えば2J/パルス以上のレーザ光21を発振するレーザ発振器11と、それから発振するレーザ光21の光路に、アッテネータ12と、レーザ光21をx-y軸方向に走査するレーザ光走査手段13と、ビームホモジナイザ14とが順に設けられている。さらにチェンバー15が設置され、その内部には被加工体91を載置するステージ16が設けられている。また図示はしないが、ビームホモジナイザ14、チェンバー15間にはレチクルが設けられ、当該表面処理装置1には、アライメント手段、レーザ発振出力の調整手段が設けられている。さらにレーザ光21の光路にはシャッターが設置される。

請求項（抜粋）：

レーザ光を発振するレーザ発振器と、前記レーザ発振器から発振されるレーザ光の光路に設けたアッテネータと、前記アッテネータを通過したレーザ光の光路に設けたもので当該レーザ光を走査するレーザ光走査手段と、前記レーザ光走査手段から出たレーザ光の光路に設けたビームホモジナイザと、前記ビームホモジナイザを通過したレーザ光が照射される位置に設けたチェンバーと、被加工体を載置するもので前記チェンバー内に入射したレーザ光が照射される位置に設けたステージとからなることを特徴とする表面処理装置。

IPC (6件)：

B23K 26/06 , B23K 26/00 , H01L 21/22 , H01L 21/268 , H01L 21/31 , H01L 21/324

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平4-329633
特開平3-072617
レーザアニール装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-224205 出願人：ソニー株式会社

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