特許
J-GLOBAL ID：200903055860184030

露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

発明者：
柴崎 祐一

柴崎 祐一 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-101782
公開番号（公開出願番号）：特開2004-311639
出願日： 2003年04月04日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：
【課題】レイヤ毎のパターン設計上の自由度の向上及びデバイスの生産性の向上の少なくとも一方を実現する露光装置及び露光方法を提供する。【解決手段】露光光ILによりマスクRが照明され、マスクと物体とが同期移動される最中に、主制御装置20がマスクの位置情報に応じてパターンの転写条件を変更する。このため、例えばマスク上に同期移動方向(走査方向)に沿ってクリティカルレイヤ領域、ノンクリティカルレイヤ領域などのように、好適転写条件が異なるパターン領域が形成されている場合に、パターン領域毎の好適転写条件に応じて、パターンの転写条件が変更される。従って、同一レイヤの露光に際してパターン領域毎に好適ないしは最適な転写条件で露光が可能となる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
マスクと物体とを同期移動して前記マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して前記物体上に転写する露光装置であって、 エネルギビームにより前記マスクを照明する照明光学系と; 前記マスクと物体とを同期移動する駆動装置と; 前記照明光学系からの前記エネルギビームにより前記マスクが照明され、前記駆動装置により前記マスクと物体とが同期移動される最中に、前記マスクの位置情報に応じて前記パターンの転写条件を変更する転写条件変更装置と;を備える露光装置。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (3件)：
H01L21/30 514C ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 518
Fターム (4件)：
5F046BA05 ,  5F046DA02 ,  5F046DA12 ,  5F046DA30
引用特許：
審査官引用 (6件)
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