露光方法及び露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：丸島儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-184240
公開番号（公開出願番号）：特開2000-021722
出願日： 1998年06月30日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：

【要約】【課題】多重露光に要する時間を短くする。【解決手段】投影露光装置に設置したマスクのゲートパターンで、ウエハに対して、途中で現像することなく、小σの斜め照明によるファイン露光と大σの垂直照明によるラフ露光の多重露光を行なう。ファイン露光の際は投影光学系の開口絞りとして長方形開口を持つ絞りを用い、ラフ露光の際は投影光学系の開口絞りとして円形開口を持つ絞りを用いる。

請求項（抜粋）：

同一のマスクパターンを露光波長は一定のままで照明条件を変えて照明して共通の被露光領域に投影することを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 7/22

FI (6件)：

H01L 21/30 502 C , G03F 7/20 521 , G03F 7/22 H , H01L 21/30 514 A , H01L 21/30 515 A , H01L 21/30 528

Fターム (10件)：

5F046AA13 , 5F046BA04 , 5F046BA05 , 5F046CA04 , 5F046CA08 , 5F046CB05 , 5F046CB17 , 5F046CB23 , 5F046DA01 , 5F046DA02

引用特許：

審査官引用 (6件)

露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-148536 出願人：キヤノン株式会社
露光方法および露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-207237 出願人：ソニー株式会社
特開平4-204737

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