特許
J-GLOBAL ID：200903055886572322
ナノ構造材料の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-312189
公開番号（公開出願番号）：特開2009-138014
出願日： 2007年12月03日
公開日（公表日）： 2009年06月25日
要約：
【課題】ナノスケールの規則的な配列をもつナノ構造材料が容易に製造可能な製造方法を提供する。【解決手段】互いに混和しないポリマーブロック成分Aとポリマーブロック成分Bとが結合してなるブロックコポリマーと、ポリマーブロック成分Aに配位してポリマーブロック成分Bに配位しない無機前駆体と、を溶媒に溶解して原料溶液を調製する原料溶液調製工程と、無機前駆体が配位したポリマーブロック成分Aからなるポリマー相1Aと、ポリマーブロック成分Bからなるポリマー相1Bと、が自己組織化により規則的に配置したナノ相分離構造10を形成するナノ構造形成工程と、を経てナノ構造材料を得る。さらに無機前駆体を無機成分に変換することで、無機成分を含むポリマー相2Aとポリマー相2Bとからなる有機/無機ナノ構造材料20が得られる。さらに有機成分を除去して、無機ナノ構造材料30としてもよい。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
互いに混和しない少なくとも第一ポリマーブロック成分と第二ポリマーブロック成分とが結合してなるブロックコポリマーと、該第一ポリマーブロック成分に配位して少なくとも該第二ポリマーブロック成分に配位しない無機前駆体と、を溶媒に溶解して原料溶液を調製する原料溶液調製工程と、
少なくとも、前記無機前駆体が配位した前記第一ポリマーブロック成分からなる第一ポリマー相と、前記第二ポリマーブロック成分からなる第二ポリマー相と、が自己組織化により規則的に配置したナノ相分離構造を形成するナノ構造形成工程と、
を含むことを特徴とするナノ構造材料の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (9件)：
4F070AA18
, 4F070AA32
, 4F070AA52
, 4F070AA72
, 4F070AB08
, 4F070AC17
, 4F070AC36
, 4F070FA04
, 4F070FB06
出願人引用 (2件)
審査官引用 (5件)
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