特許
J-GLOBAL ID:200903055909867678

凝集性噴射流注入ランス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 倉内 基弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-329252
公開番号(公開出願番号):特開平11-217620
出願日: 1998年11月19日
公開日(公表日): 1999年08月10日
要約:
【要約】【課題】 注入装置のチップを液面から相当に遠い位置に位置づけることができるにもかかわらず、気体噴射流を溶融金属の液面下に十分に貫通注入させることができる噴射流注入ランスを提供すること。【解決手段】 (A)(1)一次通路、注入空間、及び前記一次通路に連通した入口並びに前記注入空間に連通した出口を有するノズル、(2)前記一次通路から半径方向に離間し且つ前記注入空間に連通した第1の二次通路、及び(3)前記第1の二次通路から半径方向に離間し且つ前記注入空間に連通した第2の二次通路、を有する注入組立体と、(B)前記ノズルの出口のところを通って延びて前記注入空間を画成する、前記注入組立体を覆うジャケットとよりなる凝集性噴射流注入ランス。
請求項(抜粋):
(A)(1)一次通路、注入空間、及び前記一次通路に連通した入口並びに前記注入空間に連通した出口を有するノズル(2)前記一次通路から半径方向に離間し且つ前記注入空間に連通した第1の二次通路、及び(3)前記第1の二次通路から半径方向に離間し且つ前記注入空間に連通した第2の二次通路、を有する注入組立体と、(B)前記ノズルの出口のところを通って延びて前記注入空間を画成する、前記注入組立体を覆うジャケットとよりなる凝集性噴射流注入ランス。
IPC (2件):
C21C 7/072 ,  C21C 5/46 101
FI (2件):
C21C 7/072 A ,  C21C 5/46 101
引用特許:
審査官引用 (13件)
  • 多媒質羽口の操作方法および多媒質羽口機構
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-273555   出願人:カーツェーテーテヒノロギーゲーエムベーハー
  • 特開平1-195239
  • 特開昭50-121106
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