特許

J-GLOBAL ID：200903055952766583

露光装置および露光方法

発明者： 谷津 修 ,  竹内 裕一郎 ,  蛭川 茂 ,  諏訪 恭一 ,  中島 利治
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-252961
公開番号（公開出願番号）：特開2003-068607
出願日： 2001年08月23日
公開日（公表日）： 2003年03月07日
要約：

【要約】【課題】 レチクル上の微細パターンの方向性に依存することなく、最適な照明条件にしたがって露光を行うことのできる露光装置。【解決手段】 転写すべきパターンの形成されたレチクル(R)を照明する照明光学系(1〜7)と、レチクルのパターンの像を基板(W)上に形成する投影光学系(PL)とを備えた露光装置。照明光学系は、その瞳面またはその近傍の面に4つの実質的な面光源を形成するための瞳形状形成手段(6)を有する。瞳形状形成手段は、転写されるレジストパターンまたはプロセスを経て形成される基板パターンを所望の大きさおよび形状とするために、4つの実質的な面光源の縦方向の位置座標と横方向の位置座標とが実質的に異なるように設定する。

請求項（抜粋）：

転写すべきパターンの形成されたレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンの像を基板上に形成する投影光学系とを備えた露光装置において、前記照明光学系は、該照明光学系の瞳面またはその近傍の面に4つの実質的な面光源を形成するための瞳形状形成手段を有し、前記瞳形状形成手段は、転写されるレジストパターンまたはプロセスを経て形成される基板パターンを所望の大きさおよび形状とするために、前記4つの実質的な面光源の前記瞳面またはその近傍の面上における縦方向の位置座標と横方向の位置座標とが実質的に異なるように設定することを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

G03F 1/08 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (7件)：

2H095BB01 ,  5F046BA04 ,  5F046CB05 ,  5F046CB10 ,  5F046CB12 ,  5F046CB13 ,  5F046CB14

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-128370   出願人：株式会社ニコン
• 照明光学装置及び該装置を備える投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-276823   出願人：株式会社ニコン
• 露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-110563   出願人：株式会社ニコン